CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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直流电弧等离子体喷射法制备金刚石自支撑膜研究新进展

李成明 陈良贤 刘金龙 魏俊俊 黑立富 吕反修

李成明, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 黑立富, 吕反修. 直流电弧等离子体喷射法制备金刚石自支撑膜研究新进展[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2018, 38(1): 16-27. doi: 10.13394/j.cnkij.gszz.2018.1.0003
引用本文: 李成明, 陈良贤, 刘金龙, 魏俊俊, 黑立富, 吕反修. 直流电弧等离子体喷射法制备金刚石自支撑膜研究新进展[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2018, 38(1): 16-27. doi: 10.13394/j.cnkij.gszz.2018.1.0003
LI Chengming, CHEN Liangxian, LIU Jinlong, WEI Junjun, HEI Lifu, LV Fanxiu. Recent progress of free-standing diamond films prepared by DC arc plasma jet method[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2018, 38(1): 16-27. doi: 10.13394/j.cnkij.gszz.2018.1.0003
Citation: LI Chengming, CHEN Liangxian, LIU Jinlong, WEI Junjun, HEI Lifu, LV Fanxiu. Recent progress of free-standing diamond films prepared by DC arc plasma jet method[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2018, 38(1): 16-27. doi: 10.13394/j.cnkij.gszz.2018.1.0003

直流电弧等离子体喷射法制备金刚石自支撑膜研究新进展

doi: 10.13394/j.cnkij.gszz.2018.1.0003
基金项目: 

国家自然科学基金资助项目(51272024,51402013)

详细信息
    作者简介:

    李成明,男,1962年生,教授,博导。主要研究方向:金刚石薄膜和金刚石单晶,功能薄膜材料。E-mail:chengmli@mater.ustb.edu.cn

  • 中图分类号: TQ164

Recent progress of free-standing diamond films prepared by DC arc plasma jet method

  • 摘要: 文章综述了以直流电弧等离子体喷射法制备自支撑金刚石膜的研究新进展,对电弧特性、金刚石晶体质量、力学性能、光学性能及热学性能进行了介绍。研究表明:不同电弧区域的金刚石膜结晶质量及应力状态有所差异,钛过渡层可以降低金刚石的残余应力;采用四点弯曲测得金刚石的断裂韧性为10.99 MPa·m1/2;一定温度范围内,金刚石吸收系数与温度的关系基本不受金刚石质量和厚度的影响;金刚石的光学性能越好,其热导率越高,且金刚石形核面热导率略高于生长面,500 K以上时多晶金刚石膜的热导率近似于单晶水平。

     

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出版历程
  • 修回日期:  2017-12-22
  • 网络出版日期:  2022-07-07

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