CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

严振 方从富 刘冲

严振, 方从富, 刘冲. 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2018, 38(4): 77-82. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2018.4.0015
引用本文: 严振, 方从富, 刘冲. 偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2018, 38(4): 77-82. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2018.4.0015
YAN Zhen, FANG Congfu, LIU Chong. Theoretical study on trajectory of swinging plane lapping and polishing[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2018, 38(4): 77-82. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2018.4.0015
Citation: YAN Zhen, FANG Congfu, LIU Chong. Theoretical study on trajectory of swinging plane lapping and polishing[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2018, 38(4): 77-82. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2018.4.0015

偏摆式平面研磨抛光轨迹的理论研究

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2018.4.0015
基金项目: 

国家自然科学基金(51675193);福建省自然科学基金(2016J01235);华侨大学研究生科研创新能力培育计划资助项目(1611303039)。

详细信息
    作者简介:

    严振,男,1993年生,硕士研究生。主要研究方向:高效精密加工技术。E-mail:yz_hqu@foxmail.com

    通讯作者:

    方从富,男,1980年生,博士,副研究员,硕士生导师。主要研究方向:硬脆性材料先进加工技术及工具制备技术。E-mail:cffang@hqu.edu.cn

  • 中图分类号: TG58

Theoretical study on trajectory of swinging plane lapping and polishing

  • 摘要: 为分析偏摆式平面研磨抛光中偏摆运动参数对研磨抛光轨迹的影响规律,建立运动轨迹模型,用轨迹非均匀性定量方法进行评价。结果表明:偏摆幅度和偏摆角度对轨迹非均匀性影响显著,而偏摆角速度(取到非特殊值时)对轨迹非均匀性影响很小。当偏摆幅度和偏摆角度分别为15 mm和30°左右时,轨迹非均匀性明显改善,其值可减小到0.058;而选择不当的偏心距和偏摆运动参数时,其值可达0.284。

     

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出版历程
  • 修回日期:  2018-05-12
  • 网络出版日期:  2022-07-07

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