CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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硬质合金基底表面线缺陷对金刚石涂层膜基界面结合强度的影响

张奎林 陈军 黄卓 简小刚

张奎林, 陈军, 黄卓, 简小刚. 硬质合金基底表面线缺陷对金刚石涂层膜基界面结合强度的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2017, 37(3): 23-28. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.3.0006
引用本文: 张奎林, 陈军, 黄卓, 简小刚. 硬质合金基底表面线缺陷对金刚石涂层膜基界面结合强度的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2017, 37(3): 23-28. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.3.0006
ZHANG Kuilin, CHEN Jun, HUANG Zhuo, JIAN Xiaogang. Influence of line defect in cemented carbide substrate on bonding strength between diamond coating film and substrate[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2017, 37(3): 23-28. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.3.0006
Citation: ZHANG Kuilin, CHEN Jun, HUANG Zhuo, JIAN Xiaogang. Influence of line defect in cemented carbide substrate on bonding strength between diamond coating film and substrate[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2017, 37(3): 23-28. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.3.0006

硬质合金基底表面线缺陷对金刚石涂层膜基界面结合强度的影响

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.3.0006
基金项目: 

国家自然科学基金资助(51275358);中央高校专项基金资助(20140750)

详细信息
    作者简介:

    张奎林,男,1976年生,博士,高级工程师。研究方向:石油钻井工具及其耐磨性能研究。E-mail:zhangkl@sinopec.com.cn

    通讯作者:

    简小刚,男,1975年生,博士,副教授。主要研究方向:涂层制备与性能检测。E-mail:jianxgg@tongji.edu.cn

  • 中图分类号: TQ164;TG71

Influence of line defect in cemented carbide substrate on bonding strength between diamond coating film and substrate

  • 摘要: 基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势方法,研究了不同硬质合金基底线缺陷率下的金刚石涂层膜基界面结合强度。通过建立[111]、[110]、[100]3种不同晶向的金刚石涂层膜基界面分子模型,研究了硬质合金基底线缺陷率对涂层膜基界面结合强度的影响以及[111]、[110]、[100]3种不同金刚石涂层晶向下的最优膜基界面结合强度。研究结果表明:硬质合金基底的表面能随着基底线缺陷率的增加而逐步增大;当线缺陷率ρ=12.5%时,基底表面能达到最大值;其后,随着基底线缺陷率继续增大,基底表面能逐渐呈减小趋势。进一步研究显示,不同晶向的金刚石涂层膜基界面的最优界面结合能的最优线缺陷率不同,[111]晶向和[110]晶向的金刚石涂层的最优基底线缺陷率均为6.25%,而[100]晶向金刚石涂层的最优基底线缺陷率则为0%。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2017-04-12
  • 网络出版日期:  2022-07-12

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