CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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不同碳源浓度下热丝CVD金刚石薄膜的惰性示踪气体发射光谱法研究

范咏志 王传新 易成 代凯 许青波 马志斌 吴超

范咏志, 王传新, 易成, 代凯, 许青波, 马志斌, 吴超. 不同碳源浓度下热丝CVD金刚石薄膜的惰性示踪气体发射光谱法研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2017, 37(1): 25-28,33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0005
引用本文: 范咏志, 王传新, 易成, 代凯, 许青波, 马志斌, 吴超. 不同碳源浓度下热丝CVD金刚石薄膜的惰性示踪气体发射光谱法研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2017, 37(1): 25-28,33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0005
FAN Yongzhi, WANG Chuanxin, YI Cheng, DAI Kai, XU Qingbo, MA Zhibin, WU Chao. Trace rare gases OES: nonintrusive method for the process of CVD diamond film growth under different carbon source[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2017, 37(1): 25-28,33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0005
Citation: FAN Yongzhi, WANG Chuanxin, YI Cheng, DAI Kai, XU Qingbo, MA Zhibin, WU Chao. Trace rare gases OES: nonintrusive method for the process of CVD diamond film growth under different carbon source[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2017, 37(1): 25-28,33. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0005

不同碳源浓度下热丝CVD金刚石薄膜的惰性示踪气体发射光谱法研究

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2017.1.0005
基金项目: 

国家自然科学基金(11575134)资助项目;武汉工程大学研究生教育创新基金(CX2015006)。

详细信息
    作者简介:

    范咏志,男,1989年生,硕士研究生。主要从事于等离子体技术应用的研究。E-mail:fyzcvd@163.com

  • 中图分类号: TQ164

Trace rare gases OES: nonintrusive method for the process of CVD diamond film growth under different carbon source

  • 摘要: 采用热丝化学气相沉积法制备金刚石薄膜,运用惰性示踪气体发射光谱法对等离子基团进行分析。实验所采用的惰性示踪气体为氩气。热丝CVD金刚石薄膜的表面形貌和断面形貌通过SEM进行表征,质量通过Raman光谱表征,从而对等离子体诊断结果进行验证。结果表明:保持其他工艺参数不变时,随碳源混合气体流量不断增加,电子温度总体呈下降趋势,但在50~70cm3/min出现反常的先增加后下降,在60cm3/min附近时出现最大值,此时的带电粒子到达基片时具有最大通量和能量,与此同时,CO、C2、CH等几种含碳基团浓度在60cm3/min处出现最低,气相沉积过程向着金刚石薄膜沉积的方向发展,生长速率达到最大,金刚石薄膜的质量却随碳源混合气体流量的增加而降低。

     

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出版历程
  • 修回日期:  2016-12-11
  • 网络出版日期:  2022-07-12

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