CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制

苑泽伟 杜海洋 何艳 张悦

苑泽伟, 杜海洋, 何艳, 张悦. 光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(5): 15-20,31. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.5.0003
引用本文: 苑泽伟, 杜海洋, 何艳, 张悦. 光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(5): 15-20,31. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.5.0003
YUAN Zewei, DU Haiyang, HE Yan, ZHANG Yue. Preparation of slurry for photocatalytic assisted chemical mechanical polishing CVD diamond[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(5): 15-20,31. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.5.0003
Citation: YUAN Zewei, DU Haiyang, HE Yan, ZHANG Yue. Preparation of slurry for photocatalytic assisted chemical mechanical polishing CVD diamond[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(5): 15-20,31. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.5.0003

光催化辅助化学机械抛光CVD金刚石抛光液的研制

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.5.0003
基金项目: 

国家自然科学基金项目(51305278);中国博士后基金面上项目(2014M551124);沈阳市科技项目(F16-205-1-10)

详细信息
    作者简介:

    苑泽伟,男,1981年生,硕士生导师。主要研究方向为精密与特种加工,摩擦磨损技术。E-mail:zwyuan@aliyun.com

  • 中图分类号: TQ164

Preparation of slurry for photocatalytic assisted chemical mechanical polishing CVD diamond

  • 摘要: CVD金刚石因其优越的物理化学特性被应用到许多高科技领域中,但目前的抛光方法存在着效率低、精度差等诸多问题,无法满足高科技领域对金刚石高效超光滑的表面精度要求。我们提出利用二氧化钛光催化辅助化学机械抛光方法实现CVD金刚石的高质量加工,并研制出用于金刚石抛光的二氧化钛光催化氧化原理结合辅助化学机械抛光液。首先,我们根据光催化原理搭建相应的化学机械抛光装置;然后,采用甲基橙溶液氧化变色及溶液氧化还原电位(ORP)表征抛光液的氧化性;最后,对CVD金刚石进行了光催化辅助化学机械抛光。结果表明:P25型二氧化钛光催化活性最高,每100 mL纯水中加入1 mL的H2O2与0.2 mL的H3PO4对催化剂活性影响最大,氧化还原能力较高,采用其加工CVD金刚石可使抛光表面变得极为光滑。

     

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出版历程
  • 修回日期:  2016-08-10
  • 网络出版日期:  2022-07-27

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