CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

磨削速度和压力对单晶硅去除特性的影响

于月滨 王紫光 周平 高尚 郭东明

于月滨, 王紫光, 周平, 高尚, 郭东明. 磨削速度和压力对单晶硅去除特性的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(3): 1-5,10. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.3.0001
引用本文: 于月滨, 王紫光, 周平, 高尚, 郭东明. 磨削速度和压力对单晶硅去除特性的影响[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2016, 36(3): 1-5,10. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.3.0001
YU Yuebin, WANG Ziguang, ZHOU Ping, GAO Shang, GUO Dongming. Impact of grinding speed and pressure on material removal characteristics of monocrystalline silicon[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(3): 1-5,10. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.3.0001
Citation: YU Yuebin, WANG Ziguang, ZHOU Ping, GAO Shang, GUO Dongming. Impact of grinding speed and pressure on material removal characteristics of monocrystalline silicon[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2016, 36(3): 1-5,10. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.3.0001

磨削速度和压力对单晶硅去除特性的影响

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.3.0001
基金项目: 

国家自然基金重大研究计划集成项目(91023019);国家自然基金青年科学项目(51505063);中央高校基本科研业务费(DUT14LAB02;DUT14LH003);中国博士后基金面上项目(2014M561225)

详细信息
    作者简介:

    于月滨,男,1989年生,硕士研究生。主要研究方向:单晶硅超精密磨削工艺研究。E-mail:951817918@qq.com

    通讯作者:

    周平,1980年生,男,副教授。主要研究方向:精密/超精密加工工艺。E-mail:pzhou@dlut.edu.cn

  • 中图分类号: TG74;TQ164

Impact of grinding speed and pressure on material removal characteristics of monocrystalline silicon

  • 摘要: 为研究单晶硅磨削损伤,使用金刚石磨块在不同磨削速度和压力下对单晶硅表面进行高速划擦试验,金刚石的粒度尺寸为38~45 μm。通过测量硅片表面粗糙度、亚表面损伤深度和材料去除率,研究磨块的磨削速度和压力对材料去除特性的影响规律。结果表明:相同压力时,材料去除率随磨削速度增加呈先增大后减小的趋势,亚表面损伤深度逐渐变小;随法向压力增大,亚表面损伤深度变化不明显;在5N压力下,表面粗糙度值Ra变化明显,由6.4 μm减小到3.2 μm;而10 N压力下,Ra无明显变化。

     

  • 加载中
计量
  • 文章访问数:  173
  • HTML全文浏览量:  33
  • PDF下载量:  21
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 修回日期:  2016-03-27
  • 网络出版日期:  2022-07-27

目录

    /

    返回文章
    返回