CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

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一种用于金刚石摩擦化学抛光的Ni-W合金盘的制备

牛昊 金洙吉 沈煜 杨辉鹏

牛昊, 金洙吉, 沈煜, 杨辉鹏. 一种用于金刚石摩擦化学抛光的Ni-W合金盘的制备[J]. 金刚石与磨料磨具工程. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0042
引用本文: 牛昊, 金洙吉, 沈煜, 杨辉鹏. 一种用于金刚石摩擦化学抛光的Ni-W合金盘的制备[J]. 金刚石与磨料磨具工程. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0042

一种用于金刚石摩擦化学抛光的Ni-W合金盘的制备

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2023.0042
  • 摘要: 探究镀液成分,工艺条件等因素对Ni-W合金镀层的影响,制备出低内应力,高硬度的镀层,用于金刚石的摩擦化学抛光。本文采用单一性实验分别探究络合剂浓度,溶液PH,糖精钠浓度对镀层内应力,钨含量,硬度以及沉积速率的影响,并探究不同添加剂对镀层表面的整平效果。最终选用水杨醛作为整平剂,同时采用反向脉冲电流降低了镀层表面粗糙度,制备出硬度达713 hv, 镀层厚度约为0.66 mm的Ni-W盘。使用电镀抛光盘对金刚石进行摩擦化学抛光,并探究合适工艺参数,在抛光盘转速为8000 r·min-1 (速度19.3 m/s),压力为40 N(4.4 MPa)时,抛光效果较好,去除率为5.56 μm/min,磨削比达到0.394,表面粗糙度为Ra 3.693 nm。使用铸铁盘进行实验与之对比,镍钨合金盘的性能要高出很多。

     

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出版历程
  • 收稿日期:  2023-02-27
  • 修回日期:  2023-04-04
  • 录用日期:  2023-04-13
  • 网络出版日期:  2023-11-06

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