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摘要: 为了提高氧化锆陶瓷工件的表面质量，采用磁性复合流体对氧化锆陶瓷进行抛光，来达到降低氧化锆陶瓷材料表面粗糙度和减少前道工序中残留的表面与亚表面损伤的目的。利用田口法设计了3因素3水平正交实验，着重分析磁铁转速，加工间隙和抛光液磨粒粒径对于表面粗糙度和材料去除率的影响规律，并采用方差分析法分析了各因素对两个评价指标的影响权重，最终获得了可以达到最好的表面粗糙度的工艺参数组合为磁铁转速300 r/min，加工间隙0.5 mm，磨粒粒径1.25 μm，以及获得了可以达到最高的材料去除率的工艺参数组合为磁铁转速400 r/min，加工间隙0.5 mm，磨粒粒径2 μm。根据优化的工艺参数进行抛光，表面粗糙度最高可达到4.5 nm，材料去除率最高可达0.117 μm/min，优化效果显著。并利用遗传算法优化BP神经网络建立了抛光预测模型，预测误差为3.9484%。
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