CN 41-1243/TG ISSN 1006-852X

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

半导体硅片制备技术及产业现状

闫志瑞 库黎明 白杜娟 陈海滨 王永涛

闫志瑞, 库黎明, 白杜娟, 陈海滨, 王永涛. 半导体硅片制备技术及产业现状[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2020, 40(4): 5-11. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.4.0001
引用本文: 闫志瑞, 库黎明, 白杜娟, 陈海滨, 王永涛. 半导体硅片制备技术及产业现状[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2020, 40(4): 5-11. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.4.0001
YAN Zhirui, KU Liming, BAI Dujuan, CHEN Haibin, WANG Yongtao. Manufacturing technique and industry status of semiconductor silicon wafers[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2020, 40(4): 5-11. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.4.0001
Citation: YAN Zhirui, KU Liming, BAI Dujuan, CHEN Haibin, WANG Yongtao. Manufacturing technique and industry status of semiconductor silicon wafers[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2020, 40(4): 5-11. doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.4.0001

半导体硅片制备技术及产业现状

doi: 10.13394/j.cnki.jgszz.2020.4.0001
详细信息
    作者简介:

    闫志瑞,男,1977年生,硕士、教授级高级工程师。主要研究方向:硅材料制备、加工及产业化等。E-mail: zhiruiyan@126.com

  • 中图分类号: TN304.2

Manufacturing technique and industry status of semiconductor silicon wafers

计量
  • 文章访问数:  217
  • HTML全文浏览量:  43
  • PDF下载量:  47
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 修回日期:  2020-08-09

目录

    /

    返回文章
    返回